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产品详情

SemiChem 在线浓度监测仪

Entegris在设计和生产用于半导体制造工艺中的化学机械平坦化（CMP）浆料和配方清洁化学品的高精度分析仪器的有丰富的经验。我们的技术旨在确保复杂混合化学品的精确一致性，并在 CMP和配方清洁工艺中实现高产量。

我们的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在线浓度监测仪）是集自动取样、分析和报告关键过程的定量化学浓度的化学监测系统。全面的在线化学监测可实时校正浆料成分，从而稳定控制工艺生产条件。该系统可提供分类化学浓度数据。当立即显现时，可以快速纠正可能对产品质量产生负面影响的变化，有助于满足更高产品产量的要求。

应用领域

在全球范围内，我们安装了近3000套SemiChem APM系统，用于控制金属 CMP 浓度。它是控制CMP过氧化物的可靠的中心工具，并被证明在微电子环境中的所有湿化学应用中都具有较好的性能，包括：

·铜，钨，阻挡层和金属CMP

·制定清洁

·DSP+

·湿法蚀刻，氮化物蚀刻

·平底蚀刻，食人鱼蚀刻

·高频

·废水

功能与特点

经验证的标准电化学技术	提供行业精确的监控，以保证过程化学成分和完整性
	提供化学浓度数据，使浆料/化学分配系统能够提供准确的化学浓度
在线的，接近实时检测的系统	检测挥发性化学物质的工艺偏差，防止产品质量损坏
	将实验室技术过渡到在线，实现快速准确的在线控制
坚固耐用的工业设计	维持至少8500小时平均工作时间
	可经受严峻的工业环境

规格

分析方法	电位测定法，标准加成法，光度测定法
电位测量的准确性*	显示值的±0.2%
标准添加的准确性*	显示值的±2.0%
电位测量精度*	±0.2%相对误差
标准添加精度*	±2.0%相对误差
测量时间	>5分钟/次（取决于应用程序）
校准间隔	启动时**
样品消耗	<5 ml="">
进样量	0.05-5 mL（取决于应用）
进样温度	最高93°C（200°F）
耗水量	<1000 ml="">
样品进样/排样	<207 kpa="">
样品进样/排样	1/4" OD扩口接头，1" FPT安全壳联轴器
去离子水	138至276 kPa（20至40 psi）
	2.0升/分钟
	外径 1/4" 扩口接头
CDA	414-552 kPa（60-80 psi）
CDA	1/4" 外径快速接头
排水	工艺：3/4“NPT重力排水管机柜：1/2“NPT重力
电源	110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A现场可切换
废气	外径1 7/8" @ 17 CFM