产品详情
产品特色:
1.涂布速度快、精度高、湿厚均匀;
2.涂布系统封闭,在涂布过程中能防止污染物进入,
3.浆料利用率高、能够保持浆料性质稳定,可同时进行多层涂布
4.适应性强,能适应不同浆料粘度和固含量范围速度同步。
优势
可涂不同粘度的各种材料
涂层厚度从20纳米到150微米以上
良好的涂层稠度:通常优于±3%
高效/材料利用率:材料利用率可达95%
可满足不同需求:从研发到小批量试产、量产
该工艺具有较高的可靠性和鲁棒性,收率可达95%。
适用于S2S和R2R处理模式
矩形阵列的镀膜工艺可以在一个工艺周期内实现
工艺参数
涂层间隙控制:高精度、动态控制涂布头高度(Z轴)
模具运动控制:精确控制模具运动轨迹(包括加速和减速参数)在涂层方向(X轴)
模具设计:高稠度、化学相容性、低充模量、涂条的模具设计与制造
涂层控制:涂层速率(稳定涂层)和涂层轮廓(前后边缘)的高精度数字控制
控制软件:所有配方参数、数据监控与反馈控制、数据采集与分析。